蛍光X線分析装置(XRF)

エネルギー分散型蛍光X線分析装置(EA1400)

EA1400

装置概要

エネルギー分散型の蛍光X線分析装置です。
新型高性能半導体検出器(シリコンドリフト検出器)が採用され、従来機種よりも分解能がさらに高まったことにより、蛍光X線エネルギーが高めのPd, Cd, Sn, Ba, Sb などの検出性能が向上しています。
また、照射X線と試料カメラが捉える光軸が同軸になる構造のため、正確に測定部位へX線を照射することができます。
大気での測定が可能なため、生体試料の測定も可能です。

仕様

型式 EA1400(日立ハイテクサイエンス)
測定元素 Al~U(大気)
Na~U(真空)
X線照射方式 下面垂直照射型
X線源 小型空冷式X線管球(Rhターゲット)
検出器 新型SDD
分析領域 1, 3, 5 mmφ
一次X線フィルター 5モード自動切換
試料室寸法 304(W)x304(D)x110(H)mm
装置寸法 520(W)x300(D)x445(H)mm

全反射蛍光X線分析装置(NANOHUNTER)

NANOHUNTER

装置概要

封入X線管を使用した卓上型の全反射蛍光X線分析装置です。
全反射蛍光X線分析法の採用により、固体試料表面(数nm)の元素分析を高感度で行うことができます。
卓上型でありながら、全自動光軸調整システムを搭載し、基板によらず安定した分析を行うことができます。
Cdの検出下限は2ppb。液中のAsやSeの場合、0.8ppb以下の検出限界を実現しています。 また、入射X線角度を変更できるので、表面近傍のみならず、深さ方向の元素情報を得ることが可能です。

仕様

項目 備考 仕様
X線管 最大定格 50W 空冷式X線管×2本(X線管1本仕様はオプション)
ターゲット Mo/Cu (X線管1本仕様の場合はいずれか選択)
照射方式 2波長切り替え方式(マルチビームシステム)
X線発生装置 管電圧,管電流 50kVmax,1.0mAmax×2台(標準)
励起X線 分光素子 人工累積膜
照射角 0~2°可変
検出器 重元素用 電子冷却式半導体検出器(SDD)
試料室 測定雰囲気 大気,N₂,He(ガスパージはオプション)
試料交換機 16試料ターレット
標準試料寸法 26×76mm(標準寸法以外も特注対応可)
試料厚さ 0.5~5.0mm
測定径 約φ10mm
データ処理部 ハードウェア パーソナルコンピュータ,17型LCDモニタ
A4カラーインクジェットプリンタ
OS Windows

アプリケーション資料は、以下のリンクを参照ください

アプリケーションNANOHUNTERⅡ


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