試料作製装置
装置概要
[カーボンコーター]
本装置は、主に走査電子顕微鏡・電子プローブマイクロアナライザなどでの元素分析用カーボンコーティングを行う試料作製装置です。
非導伝性試料等へのカーボンコーティングを、短時間に能率良く行うために使用されます。
[白金コーター]
走査電子顕微鏡の試料作製装置として、生物などの非導電性試料への各種金属コーティングを短時間に効率的に行えるイオンスパッター装置です。
[オスミウムコーター 1, 2]
本装置は、サンプル表面に0.25nm~の極めて薄いアモルファスオスミウム層を形成することで絶縁体のSEM観察を可能にします。
プラズマCVD方式を採用しているので、金属スパッタコーティングやカーボンコーティングに比べて回り込みよく均一な薄膜が形成できます。
金属スパッタのような粒状性もないので、高倍率での表面微細構造観察に最適です。
また、サンプル表面のオスミウム膜は極めて薄いのでEDS分析に影響を与えず、炭素や窒素などの軽元素まで定量可能になります。
[ソフトプラズマエッチング装置]
プラズマ照射により試料表面の親水化やクリーニングを行う装置です。低電流で安定したグロー放電により比較的ダメージの少ない処理が可能です。
フィルム状のサンプルやSTEM観察前の極表面のコンタミ除去にも使用できます。
PDMS同士やPDMSとガラスの接合、基板の洗浄や親水化処理、酸化シリコンの酸化膜除去に使われ、UVオゾンクリーニングよりも短時間で再現性に優れます。
装置仕様
1. 装 置
-
カーボンコーター
日本電子株式会社 JEC-560 オートカーボンコータ -
白金コーター
日本電子株式会社 JEC-3000FC オートファインコーター -
オスミウムコーター 1
メイワフォーシス株式会社 Tennant20 -
オスミウムコーター 2
メイワフォーシス株式会社 Neoc-Pro/P -
ソフトプラズマエッチング装置
メイワフォーシス株式会社 SEDE-GE
2. 仕 様
[カーボンコーター]
-
蒸着方式
抵抗過熱式 -
使用圧力
20Pa以下 -
カーボン電極
1組 -
使用カーボン棒
φ5.0mm 専用 -
蒸着電源
0~5.5V、最大100A -
試料台
直径64mm -
真空チャンバ
外径120mm×高さ120mm、ガラス製 -
過電流保護回路
組込 -
排気系
直結形ロータリーポンプ 30L/min(過温度保護機能組込)
[白金コーター]
-
スパッタリング方式
マグネトロン形 -
使用圧力
20Pa以下 -
スパッタリング電流
10、20、30、40 mA -
ターゲット
白金(Pt) -
試料台
直径64 mm -
真空チャンバー
外径120 mm×高さ100 mm、ガラス製 -
真空モニター
ピラニ真空計(タイマー表示と兼用) -
タイマー
デジタル表示(1~300秒) -
ガスコントロール
組込み -
アルゴンガスパージ機能
組込み -
高圧安全回路
組込み -
排気系
直結形ロータリーポンプ 100L/min(過温度保護機能組込み)
[オスミウムコーター 1]
-
成膜方式
プラズマCVD -
使用圧力
2 Pa以下 -
電流値
0.1 ~ 20.0 mA -
自動成膜
膜厚/ループ回数 -
膜厚設定
0.5 nm ~ -
ターゲット
オスミウム(Os) -
チャンバー寸法
外径150×高さ70mm -
排気系
直結形ロータリーポンプ 50L/min -
その他機能
マニュアル成膜、自動排気シーケンス
-
成膜方式
プラズマCVD -
使用圧力
10Pa以下 -
放電電流
5 mA(推奨) -
ターゲット
オスミウム(Os) -
チャンバー寸法
外径150×高さ70mm -
試料台装填可能個数
φ10mm:35個、φ15mm:10個、φ30mm:5個 -
排気系
直結形ロータリーポンプ 50L/min -
その他機能
昇華筒開閉検知、自動排気シーケンス
[ソフトプラズマエッチング装置]
-
放電方式
グロー放電 -
使用圧力
40Pa以下 -
パワー
3~18W -
チャンバー寸法
内径 124 mm × 高さ 85 mm -
試料ステージ
φ80 mm -
均一照射面積
55% -
領域面積
28 cm² -
排気系
直結形ロータリーポンプ 50 L/min